

取消
清空記錄
歷史記錄
清空記錄
歷史記錄
一、電子半導(dǎo)體行業(yè):核心需求 “超高純度 + 無雜質(zhì)”
電子行業(yè)對氮?dú)饧兌纫髽O高,需避免任何雜質(zhì)(如氧氣、水分、粉塵)導(dǎo)致元件氧化或性能失效,通常要求純度≥99.999%(5 個(gè) 9),部分高端場景需 99.9999%(6 個(gè) 9)以上。
晶圓制造:在硅片清洗、光刻、蝕刻、離子注入等工序中,用高純度氮?dú)庾鳛楸Wo(hù)氣,隔絕空氣,防止硅片表面氧化,確保電路圖案精度。
芯片封裝:封裝過程中充入高純度氮?dú)猓懦庋b腔內(nèi)的氧氣和濕氣,避免芯片引腳氧化,提升芯片穩(wěn)定性和使用壽命。
電子元件生產(chǎn):如電容器、電阻、LED 芯片等制造時(shí),用氮?dú)庾鳛闊Y(jié)、焊接的保護(hù)氣,防止元件在高溫加工中氧化損壞。
二、化工行業(yè):核心需求 “惰性保護(hù) + 安全防爆”
化工領(lǐng)域主要利用氮?dú)獾亩栊裕苊庖兹家妆锪吓c空氣接觸,同時(shí)防止物料氧化變質(zhì),純度要求多為 99.99%-99.999%。
易燃易爆物料處理:在甲醇、乙醇、丙酮等溶劑的儲(chǔ)存、運(yùn)輸罐中充入高純度氮?dú)猓纬啥栊苑諊档凸迌?nèi)氧含量(通常控制在 5% 以下),防止物料遇明火或靜電爆炸。
催化反應(yīng)載氣:在化工合成反應(yīng)(如合成氨、聚氨酯生產(chǎn))中,用高純度氮?dú)庾鳛檩d氣,攜帶反應(yīng)原料進(jìn)入反應(yīng)器,同時(shí)隔絕空氣,確保反應(yīng)按預(yù)設(shè)路徑進(jìn)行,避免副反應(yīng)發(fā)生。
管道 / 設(shè)備吹掃:化工裝置開車前或檢修后,用高純度氮?dú)獯祾吖艿馈⒎磻?yīng)器內(nèi)的空氣和殘留物料,防止開車時(shí)發(fā)生爆炸或物料污染。
